dc.date.accessioned | 2013-03-12T09:09:22Z | |
dc.date.available | 2013-03-12T09:09:22Z | |
dc.date.issued | 2005 | en_US |
dc.date.submitted | 2005-09-06 | en_US |
dc.identifier.citation | Klepper, Karina Barnholt. Tynne filmer av Co3O4 framstilt med ALCVD. Hovedoppgave, University of Oslo, 2005 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10852/12768 | |
dc.description.abstract | Oppgaven tar for seg fremstilling av tynne filmer av koboltoksid ved hjelp av ALCVD (Atomic Layer Chemical Vapour Deposition) metoden. Målsetningen var å beherske syntese av koboltoksid-systemet. Tynne filmer ble laget ved å bruke Co(thd)2 (Hthd = 2,2,6,6-tetrametylheptan-3,5-dione) og ozon som forløpere. Viktige egenskaper ved Co(thd)2 og prosessparameterne for filmsyntesen ble i den forbindelse bestemt. Krystallstrukturen til Co(thd)2(s) ble bestemt ved hjelp av énkrystalldiffraksjon. Vekst av ALCVD-type (dvs. ALCVD-vinduet) ble funnet i temperaturintervallet 114 307 °C. I dette intervallet viste systemet lineær vekst som funksjon av antall sykluser, med vekstrate på ~0,21 Å per syklus. Film ble deponert på substrater av glass, Si(100), MgO(100), α-Al2O3(001) og α-Al2O3(012). For glass og Si(100) ble det observert vekst med (100)-preferert orientering i den nedre delen av temperaturintervallet for ALCVD-vinduet. Ved høyere temperatur ble det observert en (111)-orientert vekst for film deponert på Si(100). Filmer avsatt på substrater av MgO(100) og α-Al2O3(001) viste begge epitaksiell vekst og systemene kan henholdsvis beskrives som (001)[100]Co3O4||(001)[100]MgO og (111)[111]Co3O4||(001)[100]α-Al2O3. Orientert vekst ble også funnet på substrater av α-Al2O3(012). Morfologien til filmene ble kartlagt, og det ble funnet indikasjoner på at krystallittene av Co3O4 i filmen termineres av {111}-flater i den nedre delen av temperaturintervallet i ALCVD-vinduet. De elektriske egenskapene ved romtemperatur for film deponert på substrater av glass og MgO(100) ble også undersøkt. Bruk av bildeskanner som en alternativ måte å kartlegge tykkelsesgradienter på ble testet for filmer deponert på glass. | nor |
dc.language.iso | nob | en_US |
dc.subject | orienterte uorienterte substrater AFM atomic force microscopy XRD pulver-røntgendiffraksjon kobolt ALCVD | en_US |
dc.title | Tynne filmer av Co3O4 framstilt med ALCVD | en_US |
dc.type | Master thesis | en_US |
dc.date.updated | 2005-11-01 | en_US |
dc.creator.author | Klepper, Karina Barnholt | en_US |
dc.subject.nsi | VDP::440 | en_US |
dc.identifier.bibliographiccitation | info:ofi/fmt:kev:mtx:ctx&ctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:dissertation&rft.au=Klepper, Karina Barnholt&rft.title=Tynne filmer av Co3O4 framstilt med ALCVD&rft.inst=University of Oslo&rft.date=2005&rft.degree=Hovedoppgave | en_US |
dc.identifier.urn | URN:NBN:no-11253 | en_US |
dc.type.document | Hovedoppgave | en_US |
dc.identifier.duo | 30082 | en_US |
dc.contributor.supervisor | Helmer Fjellvåg, Ola Nilsen | en_US |
dc.identifier.bibsys | 05135697x | en_US |